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    四氟化碳

    氣體

    以上為常規標準包裝,如有特殊需求請與我司銷售人員聯系。

    產品說明:

    四氟化碳在常溫常壓下是無色無臭有輕微醚味,較易揮發的不燃燒的壓縮氣體,是化學性質非常穩定的有機物。充裝于四氟化碳鋼瓶中,飽和蒸汽壓約壓力2000 psig。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在硅和二氧化硅體系中,采用CF4-H2反應離子刻蝕時,通過調節兩種氣體的比例,可以獲得45:1的選擇性。在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產,激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態,印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。由于四氟化碳的化學穩定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業;如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。


    注意事項:

    四氟化碳是不燃性壓縮氣體。儲存于陰涼、通風倉間內。倉內溫度不宜超過60℃。遠離火種、熱源。防止陽光直射。應與易燃或可燃物分開存放。驗收時要注意品名,注意驗瓶日期,先進倉的先發用。搬運四氟化碳時輕裝輕卸,防止鋼瓶及附件破損。泄漏時,應迅速撤離泄漏污染區人員至上風處,并進行隔離,嚴格限制出入。建議應急處理人員戴自給正壓式呼吸器,穿一般作業工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風,加速擴散。如有可能,即時使用。漏氣容器要妥善處理,修復、檢驗后再用。


    產品應用:

    用于電子器件表面清晰、印刷電路生產中的去污劑

    CF4是良好的電氣絕緣和滅弧材料,可作為變壓器、電力開關的絕緣氣體

    用于微電子工業的等離子蝕刻

    用于太陽能電池的生產,激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態

    用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等

    用于塑料行業,如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯

    由于四氟化碳的溶氧性很好,所以被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣

    高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻


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